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YMC-Triart系列反相色譜柱

發(fā)布時(shí)間: 2013-06-20   人氣指數(shù): 7594


YMC-Triart系列反相色譜柱是通過(guò)基質(zhì)、顆粒和表面修飾3個(gè)(Tri)革新技術(shù)(art)而誕生的重視使用簡(jiǎn)便性的混合有機(jī)硅膠基質(zhì)色譜柱,集卓越的耐久性、良好的峰形和再現(xiàn)性等特點(diǎn)于一身,可作為各種化合物分離的首選柱。

YMC-Triart系列反相色譜柱是通過(guò)基質(zhì)、顆粒和表面修飾3個(gè)(Tri)革新技術(shù)(art)而誕生的重視使用簡(jiǎn)便性的混合有機(jī)硅膠基質(zhì)色譜柱,集卓越的耐久性、良好的峰形和再現(xiàn)性等特點(diǎn)于一身,可作為各種化合物分離的首選柱。

YMC-Triart系列反相色譜柱特點(diǎn):

1、追求使用的簡(jiǎn)便性;

2、通過(guò)革新技術(shù)實(shí)現(xiàn)了在酸性條件到堿性條件下的超長(zhǎng)使用壽命;

3、對(duì)大多數(shù)化合物及條件都能顯示良好的峰形;

4、HPLC與UHPLC間的方法順暢轉(zhuǎn)換;

5、最佳的首選色譜柱

YMC-Triart的三個(gè)革新技術(shù)

1、新開(kāi)發(fā)的混合有機(jī)硅膠材料

YMC-Triart多層結(jié)構(gòu)混合型顆粒示意圖

YMC-Triart多層結(jié)構(gòu)混合型顆粒示意圖

Triart采用微反應(yīng)器技術(shù),通過(guò)連續(xù)可精密控制的新型造粒工藝,實(shí)現(xiàn)了多層復(fù)合結(jié)構(gòu)的混合型顆粒。由于具有有機(jī)硅烷層和無(wú)機(jī)硅烷層的多層復(fù)合結(jié)構(gòu),在維持無(wú)機(jī)硅膠類(lèi)所具有的優(yōu)秀分離選擇性的同時(shí),還具有卓越的耐酸堿性。

2、采用微反應(yīng)器造粒技術(shù)

均勻的顆粒、平滑的顆粒表面

均勻的顆粒、平滑的顆粒表面

Triart采用的是通過(guò)微型反應(yīng)器的造粒技術(shù)而獲得的細(xì)微顆粒很少的均勻顆粒,并且該顆粒具有極其平滑的顆粒表面。通過(guò)均勻的顆粒和平滑的顆粒表面,Triart實(shí)現(xiàn)了低柱壓以及高度的表面修飾再現(xiàn)性(批間再現(xiàn)性)。

均勻的微孔徑分布

均勻的微孔徑分布

與以往產(chǎn)品比較,Triart的微孔徑分布均勻集中,能做到均勻的表面修飾,從而獲得良好的峰形和高度的再現(xiàn)性。

3、新開(kāi)發(fā)的表面修飾技術(shù)

多級(jí)非活性化(端基封尾)示意圖

多級(jí)非活性化(端基封尾)示意圖

在鍵合了主鏈的顆粒表面上并存著反應(yīng)活性良好的硅羥基和由于立體障礙等引起的反應(yīng)活性不良的硅羥基,以往的端基封尾方法是在同一階段通過(guò)一種非活性化劑封鎖這些反應(yīng)活性不同的硅羥基。但是,反應(yīng)活性良好的硅羥基即使在封尾后,由于易受加水分解影響而成為耐久性不佳的一個(gè)因素,同時(shí)反應(yīng)活性不良的硅羥基封尾沒(méi)能完全進(jìn)行,也是造成拖尾等峰形不良的主要原因之一。

Triart運(yùn)用新開(kāi)發(fā)的表面修飾技術(shù),采用了將反應(yīng)性不同的多種非活性化劑按階段地與硅羥基向結(jié)合的多級(jí)非活性化方法,通過(guò)此手段,能使容易反應(yīng)的部位和難以侵蝕的非活性化劑相結(jié)合,并且能夠最大程度地封鎖難以反應(yīng)的硅羥基,從而實(shí)現(xiàn)了卓越的耐久性和良好的峰形顯示。

YMC-Triart反相色譜柱種類(lèi)及性能參數(shù)

Triart作為YMC公司研制生產(chǎn)的新型填料,更多鍵合功能鍵仍在進(jìn)一步研制中。

 

Triart C18

Triart C8

Triart Phenyl

Triart PFP

鍵合基團(tuán)

十八烷基

辛烷基

苯基

五氟苯基

基質(zhì)材料

有機(jī)/無(wú)機(jī)雜化硅膠

顆粒粒徑

5um、3um、1.9um

微孔徑

12nm

端基封尾

多級(jí)端基封尾

未封尾

pH范圍

1.0~12.0

1.0~10.0

1.0~8.0

極限柱溫

70℃(pH1-7)

50℃(pH7-12)

50℃

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